캘리포니아 샌프란시스코에서 열린 국제 반도체 학회인 2016 ISSCC(IEEE International Solid-State Circuits Conference)에서 인텔의 부사장 겸 제조 부문 총괄 윌리엄 홀트(William M. Holt, 이하 홀트)가 무어의 법칙과 관련한 초청 강연을 진행했다.

Moore 's Law: A Path Forward'라는 제목으로 진행된 이번 강연에서는 무어의 법칙이 언제까지 계속될 것인가에 대한 내용으로 강연이 진행돼 관심을 모았다.

무어의 법칙은 인텔의 창업자인 고든 무어가 제창한 법칙으로 프로세스가 1세대 진행했을 때 같은 규모의 회로라면 다이 면적이 절반으로 줄어들고, 다이가 작아진 만큼 제조에 드는 비용을 큰 폭으로 낮출 수 있다는 내용이다. 또한 동일한 크기의 다이에 2배의 회로를 탑재할 수 있게 되므로 아키텍처를 확장할 수 있는 등의 장점이 있다.

하지만, 최근 많은 전문가들이 현재 나노미터 수준으로 작은 반도체 공정 축소의 물리적인 한계와 연구비 상승 등으로 인한 경제적 한계를 지적하며 무어의 법칙이 머지않아 무너질 것으로 내다보고 있다.

하지만, 홀트는 강연을 통해 제조비용과 개발 비용의 상관관계를 예시로 들며 공정 미세화를 거듭하는 것이 경제적으로도 합리적이며 무어의 법칙을 포기하는 것보다 유지하는 것이 장기적인 관점에서 볼 때도 유리하다고 주장했다.

비록 R&D(Research and Development, 연구 및 개발) 비용은 큰 폭으로 오르고 있지만 이를 통해 제조비용을 극적으로 낮출 수 있으므로 크게 문제가 되지 않는다며 IT 업계의 한계론을 일축했다.

따라서 당분간 개발비의 증가와 개발 주기의 지연을 겪게 되더라도 인텔은 무어의 법칙 유지를 위해 계속되는 투자와 개발을 거듭할 것으로 전망되고 있으며, 이를 통해 얻어진 경쟁력을 기반으로 시장 지배력을 더욱 강화할 것으로 예상된다.